کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9572487 | 1503715 | 2005 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Initial adsorption and C-incorporation of organosilanes at Si(0Â 0Â 1) investigated by temperature-programmed desorption
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Temperature-programmed desorption (TPD) has been used to study the initial adsorption and C-incorporation of organosilanes [monomethylsilane (MMS), dimethylsilane (DMS) and trimethylsilane (TMS)] at Si(0Â 0Â 1) surfaces. Hydrogen was the only desorbing species observed in the TPD spectra from organosilanes. Organosilane molecules adsorb dissociatively on the Si(0Â 0Â 1) surfaces at room temperature. TPD spectra from DMS- and TMS-adsorbed Si surfaces present carbon-related hydrogen (H2) desorption peaks from the initial adsorption. The carbon-incorporation ratio was found to be larger in the order of TMS > DMS > MMS, with the sticking probability of molecules being almost identical for the three organosilane molecules.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 242, Issues 3â4, 15 April 2005, Pages 270-275
Journal: Applied Surface Science - Volume 242, Issues 3â4, 15 April 2005, Pages 270-275
نویسندگان
K. Senthil, M. Suemitsu,