کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
9672285 1450566 2005 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Structure of the oxide damage under progressive breakdown
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی کامپیوتر سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Structure of the oxide damage under progressive breakdown
چکیده انگلیسی
The I-V characteristics of ultra-thin gate oxides under progressive breakdown (BD) show a common behavior, indicative of well-defined general physical features of the BD spot. Transmission electron microscopy (TEM) observations give some hints about this structure and on this basis we propose a physical model of the post-BD current, which is in good agreement with data.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 45, Issues 5–6, May–June 2005, Pages 845-848
نویسندگان
, , , , , ,