کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9672285 | 1450566 | 2005 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Structure of the oxide damage under progressive breakdown
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The I-V characteristics of ultra-thin gate oxides under progressive breakdown (BD) show a common behavior, indicative of well-defined general physical features of the BD spot. Transmission electron microscopy (TEM) observations give some hints about this structure and on this basis we propose a physical model of the post-BD current, which is in good agreement with data.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 45, Issues 5â6, MayâJune 2005, Pages 845-848
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 45, Issues 5â6, MayâJune 2005, Pages 845-848
نویسندگان
F. Palumbo, G. Condorelli, S. Lombardo, K.L. Pey, C.H. Tung, L.J. Tang,