کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9672289 | 1450566 | 2005 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of oxide breakdown position and device aspect ratio on MOSFET's output characteristics
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
In this work, the influence of oxide breakdown (BD) location on the MOSFET output characteristics has been studied taking into account the devices aspect ratio. The results show that the BD location plays an important role on the device output characteristics for any device geometry. The characteristics have been included on a circuit simulator in order to consider the BD influence on a three stage inverter. The simulation shows that the BD position can play an important role on circuit performance.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 45, Issues 5â6, MayâJune 2005, Pages 861-864
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 45, Issues 5â6, MayâJune 2005, Pages 861-864
نویسندگان
R. Fernández, R. RodrıÌguez, M. NafrıÌa, X. Aymerich,