کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9672331 | 1450567 | 2005 | 10 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Gate dielectric breakdown in the time-scale of ESD events
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Transmission line pulse (TLP) measurements are used to demonstrate that oxynitride breakdown projections from DC measurements using conventional area and voltage-scaling techniques can be extended to the nanosecond time-scale. ESD protection systems can thus be designed to prevent dielectric breakdown. Important concepts in gate dielectric breakdown such as the anode-hole injection model and area and statistical effects are discussed and applied to the nanosecond regime.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 45, Issues 3â4, MarchâApril 2005, Pages 427-436
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 45, Issues 3â4, MarchâApril 2005, Pages 427-436
نویسندگان
Bonnie E. Weir, Che-Choi Leung, Paul J. Silverman, Muhammad A. Alam,