کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9783890 | 1512026 | 2005 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Strain engineering in SOI-type materials for future technologies
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Among the different substrate level options investigated by the industry, we will focus here on strained Si layers on insulator. Different wafer manufacturing techniques will be considered, and the potential of wafer bonding and layer transfer techniques will be highlighted.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science and Engineering: B - Volumes 124â125, 5 December 2005, Pages 16-23
Journal: Materials Science and Engineering: B - Volumes 124â125, 5 December 2005, Pages 16-23
نویسندگان
Bruno Ghyselen,