کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9817465 | 1518765 | 2005 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Analysis of nanolayered samples with a 4He beam
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We analysed Si(1Â 0Â 0)/Al2O3 500Â nm/(CoFeB 2-7Â nm/Al2O3 0.7-1.5Â nm)Ã4/Ta 2Â nm multilayers. Layer thickness, composition and roughness, as well as interdiffusion on annealing, are important parameters to be determined. This poses an extreme challenge to any analysis technique. We show that the technique of choice can be Rutherford backscattering with an inexpensive Si surface barrier detector, complemented by elastic recoil detection analysis and X-ray diffraction experiments.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 241, Issues 1â4, December 2005, Pages 361-364
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 241, Issues 1â4, December 2005, Pages 361-364
نویسندگان
N. Franco, J.A.A. Gouveia, E. Alves, S. Cardoso, P.P. Freitas, N.P. Barradas,