کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9821504 | 1518985 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Photoresist ashing in nitrogen gas using ferrite core inductively coupled plasmas
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The characteristics of photoresist (PR) ashing using N2 plasmas in a ferrite core inductively coupled plasma etcher have been studied and the effect of bias power and gas flow rate on PR ash rate and low-k material etch rate has been investigated. Fourier transform infrared spectroscopy revealed that the ashing process with N2 gas produced less damage to the low-k material compared to the process with O2 gas. The HF etch test was used to evaluate the ash damage to the low-k material.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 80, Issues 1â3, 14 October 2005, Pages 193-197
Journal: Vacuum - Volume 80, Issues 1â3, 14 October 2005, Pages 193-197
نویسندگان
Hyoun Woo Kim, Ju Hyun Myung, Nam Ho Kim, Chin Wook Chung, Wan Jae Park, Chang-Jin Kang, Chung-Gon Yoo, Dae-Kyu Choi,