کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9821582 | 1518988 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Deposition of monoatomic and compound metal layers by the dynamic ion mixing
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Deposition of monoatomic and compound metal layers by the dynamic ion mixing Deposition of monoatomic and compound metal layers by the dynamic ion mixing](/preview/png/9821582.png)
چکیده انگلیسی
Experimental data for the depth profiles of deposited/implanted atoms and for the thickness of films applied are also reported. The variation of the film thickness, the uniformity of the film, and the efficiency of mixing in the film-substrate system are discussed based on the experimental data.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 78, Issues 2â4, 30 May 2005, Pages 241-245
Journal: Vacuum - Volume 78, Issues 2â4, 30 May 2005, Pages 241-245
نویسندگان
E.B. Bojko, Cz. Karwat, K. Kiszczak, M. Kolasik, T. KoÅtunowicz, F.F. Komarov, A.F. Komarov, Cz. Kozak, A. Wdowiak, P. Å»ukowski,