کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9834627 | 1524912 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fundamental limits on the z-resolution of ion beam patterning of magnetic multilayers
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We studied the atomic relocation in Ni-Cu and Co-Cu multilayers under Ar+ bombardment, using molecular dynamics simulations. The atomistic mechanisms upon impact are significantly different for the two systems, especially on the monolayer scale: Ar bombardment of Co on Cu is found to lead to dewetting, while bombardment of Ni on Cu is found to lead mostly to formation of an interfacial alloy due to relocated atoms.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Magnetism and Magnetic Materials - Volume 286, February 2005, Pages 181-185
Journal: Journal of Magnetism and Magnetic Materials - Volume 286, February 2005, Pages 181-185
نویسندگان
J.C.S. Kools, K. Williams, A. Hayes,