Keywords: اکتیو پرتو یونی; Reactive ion etching; Ion beam etching; Nanocrystalline diamond; Surface roughness;
مقالات ISI اکتیو پرتو یونی (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Keywords: اکتیو پرتو یونی; Ion beam etching; Shielding rate; Etch depth; Parametric modeling;
Keywords: اکتیو پرتو یونی; Carbon fiber composite; Chemical analysis; Focused ion beams; Interphase; Ion beam etching; Microstructure; Ultramicrotomy
Keywords: اکتیو پرتو یونی; Spin torque devices; Electron beam lithography; Poly(methyl methacrylate) (PMMA); Cross-linked PMMA; Ion beam etching; Reactive ion etching
High performance mixed-potential-type Zirconia-based NO2 sensor with self-organizing surface structures fabricated by low energy ion beam etching
Keywords: اکتیو پرتو یونی; NO2 sensing; Yttria-stabilized-zirconia; Ion beam etching; Self-organized nanostructure; Mixed-potential;
High-performance etching of multilevel phase-type Fresnel zone plates with large apertures
Keywords: اکتیو پرتو یونی; 050.1970; 220.4000; 050.1940; 220.0220; Fresnel zone plate; Diffractive optical elements; Etching depth uniformity; Ion beam etching; Dwell time algorithm;
Combination of thermal scanning probe lithography and ion etching to fabricate 3D silicon nanopatterns with extremely smooth surface
Keywords: اکتیو پرتو یونی; 3D nanopatterns; Thermal scanning probe lithography; Ion beam etching; Dry etching; Surface roughness;
Cost effective MEMS fabrication of a nanowire characterization platform with solder coated electrodes
Keywords: اکتیو پرتو یونی; PVD; physical vapor deposition; TMAH; tetramethylammonium hydroxide; KOH; potassium hydroxide; HCL; hydrogen chloride; TNCP; thermoelectric nanowire characterization platform; TEM; transmission electron microscopy; FIB; Focused ion beam; SEM; scanning ele
Telluride buried channel waveguides operating from 6 to 20 μm for photonic applications
Keywords: اکتیو پرتو یونی; Telluride films; Thermal co-evaporation; Ion beam etching; Mid-infrared waveguides; Spatial interferometry
Dry etching of magnetic tunnel junctions monitored by spectroscopic reflectance
Keywords: اکتیو پرتو یونی; Ion beam etching; Spectroscopic reflectance; Optical simulation; Thin film; Magnetic tunnel junction; Sputtering yield
On the geometry control of magnetic devices: Impact of photo-resist profile, shadowing effect, and material properties
Keywords: اکتیو پرتو یونی; Magnetic materials; Ion beam etching; Shadowing effect; Geometry control
Surface structuring of diamond-like carbon films by colloidal lithography with silica sub-micron particles
Keywords: اکتیو پرتو یونی; Diamond-like carbon; Colloidal lithography; Ion beam etching; Surface properties; Coatings
Recovery of fused silica surface damage resistance by ion beam etching
Keywords: اکتیو پرتو یونی; 42.70.Ce; 61.72.Ji; 61.80.BaUV laser; Ion beam etching; Laser-induced damage threshold; Surface roughness
Ion beam etched diffraction gratings in fused quartz and lithium niobate
Keywords: اکتیو پرتو یونی; 61.80.Jh; 81.65.Cf; 42.79.Gn; Ion beam etching; Photolithography; Diffraction grating; Lithium niobate; Fused quartz;
Piezoelectric evaluation of ion beam etched Pb(Zr,Ti)O3 thin films by piezoresponse force microscopy
Keywords: اکتیو پرتو یونی; 68.37.-d; 68.37.Ps; 68.55.-a; 77.65.-j; 77.80.Dj; 77.80.Fm; 81.65.-b; 85.85.+j; Pb(Zr,Ti)O3 thin films; Ion beam etching; Atomic force microscopy; Surface morphology; Piezoresponse force microscopy; Local piezoelectric hysteresis loops;
Formation of biaxial texture in metal films by selective ion beam etching
Keywords: اکتیو پرتو یونی; Ion beam etching; Biaxial texture; Crystalline films; Thin film;
Fundamental limits on the z-resolution of ion beam patterning of magnetic multilayers
Keywords: اکتیو پرتو یونی; 75.75.+a; 79.20.Rf; Ion beam etching; Interface mixing; Molecular dynamics;