![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Development of an MeV ion beam lithography system in Jyväskylä
Keywords: + 01.52. + ر; 01.52.+r; 06.60.Ei; 29.20.Hm; 81.40.Wx; 85.40.Hp; 87.80.−yMeV ion beam lithography; Cyclotron; Proximity aperture; Proton beam writing