![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Local monitoring of atomic steps on GaAs(001) surface under oxidation, wet removal of oxides and thermal smoothing
Keywords: مراحل اتمی; Atomic steps; Surface smoothing; Local oxidation; GaAs; Monte Carlo simulation;