![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Improvement in polishing effect of silicon wafer due to low-amplitude megasonic vibration assisting chemical-mechanical polishing
Keywords: مواد شیمیایی مکانیکی پرداخت; Megasonic; Vibrator; Chemical-mechanical polishing; Roughness; Silicon wafer;