Keywords: دگرگونی مگنترون واکنش پذیر DC; Yttria-stabilized zirconia (YSZ); DC reactive magnetron sputtering; Columnar grain; Ionic conductivity; Nanoporous substrate;
مقالات ISI دگرگونی مگنترون واکنش پذیر DC (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Keywords: دگرگونی مگنترون واکنش پذیر DC; Yttria-stabilized zirconia (YSZ); DC reactive magnetron sputtering; Columnar grain; Nanoporous substrate; Pinholes;
Keywords: دگرگونی مگنترون واکنش پذیر DC; DC reactive magnetron sputtering; Annealing treatment; Structural properties; Electrical properties; Optical transmittance;
Influence of the nitrogen flow rate on the infrared emissivity of TiNx films
Keywords: دگرگونی مگنترون واکنش پذیر DC; TiNx film; DC reactive magnetron sputtering; Nitrogen flow rate; Infrared emissivity;
Texture of the nano-crystalline AlN thin films and the growth conditions in DC magnetron sputtering
Keywords: دگرگونی مگنترون واکنش پذیر DC; DC reactive magnetron sputtering; XRD; FTIR and Raman spectroscopy
CO2 gas sensing properties of DC reactive magnetron sputtered ZnO thin film
Keywords: دگرگونی مگنترون واکنش پذیر DC; CO2 gas sensor; Zinc oxide; DC reactive magnetron sputtering; Thin film sensor;
The effect of substrate temperature on high quality c-axis oriented AZO thin films prepared by DC reactive magnetron sputtering for photoelectric device applications
Keywords: دگرگونی مگنترون واکنش پذیر DC; Al doped ZnO (AZO); DC reactive magnetron sputtering; Structure; Electrical properties; Optical properties;
Effect of ion bombardment on low-temperature growth of TiO2 thin films in DC reactive sputtering with two sputtering sources
Keywords: دگرگونی مگنترون واکنش پذیر DC; Titanium dioxide; DC reactive magnetron sputtering; RF bias sputtering; Ion bombardment; Low-temperature crystal growth
Enhancement of photoelectric and photocatalytic activities: Mo doped TiO2 thin films deposited by sputtering
Keywords: دگرگونی مگنترون واکنش پذیر DC; DC reactive magnetron sputtering; Mo doping; Photocatalysis; Photocurrent; Cyclic voltammetry; Electrochemical impedance spectroscopy
Effects of negative substrate bias voltage on the structure and properties of aluminum oxide films prepared by DC reactive magnetron sputtering
Keywords: دگرگونی مگنترون واکنش پذیر DC; Aluminum oxide (AlxOy) film; DC reactive magnetron sputtering; Negative substrate bias voltage (Vb); Annealing; Heat treatment;
Influence of Ti nanocrystallization on microstructure, interface bonding, surface energy and blood compatibility of surface TiO2 films
Keywords: دگرگونی مگنترون واکنش پذیر DC; TiO2 films; Nano-grained Ti; Anti-coagulant properties; Crystallization effect; DC reactive magnetron sputtering;
Structure and electrical properties of CdIn2O4 thin films prepared by DC reactive magnetron sputtering
Keywords: دگرگونی مگنترون واکنش پذیر DC; 68.55.Jk; 68.55.Np; 73.61.âr; CdIn2O4 thin films; Structure; Electrical properties; DC reactive magnetron sputtering;
Visible Light Photoelectrochemical Response of Carbon- Doped TiO2 Thin Films Prepared by DC Reactive Magnetron Sputtering
Keywords: دگرگونی مگنترون واکنش پذیر DC; DC reactive magnetron sputtering; Graphite/titanium target; Carbon-doped TiO2 thin film; Photoelectrochemistry;
The evolution of the structural, electrical and optical properties in indium-tin-oxide thin film on glass substrate by DC reactive magnetron sputtering
Keywords: دگرگونی مگنترون واکنش پذیر DC; Indium-tin-oxide (ITO); Thickness-dependent; DC reactive magnetron sputtering
Dependence of properties of N-Al codoped p-type ZnO thin films on growth temperature
Keywords: دگرگونی مگنترون واکنش پذیر DC; 61.72.V; 72.80.E; 73.61.G; 78.66.H; ZnO thin films; N-Al codoping method; p-Type conduction; dc reactive magnetron sputtering;
Structure and properties of magnetron sputtered Zr-Si-N films with a high (â¥25 at.%) Si content
Keywords: دگرگونی مگنترون واکنش پذیر DC; Zr-Si-N films; High (â¥25 at.%) Si content; Structure; Mechanical properties; Oxidation resistance; DC reactive magnetron sputtering;