![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Design and fabrication of densely integrated silicon quantum dots using a VLSI compatible hydrogen silsesquioxane electron beam lithography process
Keywords: پرتو الکترونی مقاومت می کند; High-resolution; Electron beam resist; HSQ; Nanolithography; SET; SOI;