![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Chemical mechanical planarization of germanium using oxone® based silica slurries
Keywords: سیلیس فوم; Chemical mechanical planarization; Germanium; Oxone; Fumed silica; Removal rate;