![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Keywords: چیز; MOS; metal oxide semiconductor; EDL; electron depletion layer; HAL; hole accumulation layer; BET; Brunauer-Emmett-Teller; FESEM; field emission scanning electron microscopy; TEM; transmission electron microscopy; HETEM; high-resolution transmission electr