![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Plasma nitridation of atomic layer deposition (ALD) Al2O3 by NH3 in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) for silicon solar cell
Keywords: نیتریدی سازی پلاسما; Si solar cell; Surface passivation; Atomic layer deposition; Plasma nitridation; Al2O3; Carrier lifetime; Plasma-enhanced chemical vapor deposition;