![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Dose regularization via filtering and projection: An open-source code for optimization-based proximity-effect-correction for nanoscale lithography
Keywords: تصحیح اثر نزدیکی; Lithography; Proximity effect correction; Optimization;