![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
SLM device for 193 nm lithographic applications
Keywords: مدولاتور فضایی; Spatial light modulator; SLM; Optical maskless lithography; OML; Micro-mirror; Aerial image; Calibration; Maskless; MEMS; Mirror; Electrode; Design; Fabrication; Integration; Packaging; Electro-mechanical; Qualification; Imaging