کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
541506 | 1450395 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
SLM device for 193 nm lithographic applications
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
OMLSLMMEMS - فناوری میکرو الکترومکانیکیmirror - آینهIntegration - ادغامelectrode - الکترودElectro-mechanical - الکترومکانیکیPackaging - بستهبندیMaskless - ترسناکAerial image - تصویر هواییImaging - تصویربرداریFabrication - ساختDesign - طراحیSpatial light modulator - مدولاتور فضاییMicro-mirror - میکرو آینهQualification - واجد شرایط بودنCalibration - واسنجی یا کالیبراسیون
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: SLM device for 193 nm lithographic applications SLM device for 193 nm lithographic applications](/preview/png/541506.png)
چکیده انگلیسی
The imaging capability of a new spatial light modulator, (SLM), a custom MEMS device is presented. Low k1 factor aerial image measurements show the suitability of the SLM device for a variety of uses including optical maskless lithography (OML) applications.Collaborating with ASML partner companies, a fully programmable 11-million micro-mirror SLM device was designed, fabricated, and tested. Innovative MEMS manufacturing techniques were developed to fabricate the very large number of micro-mirrors on the underlying mixed-signal CMOS control circuitry. The individual eight-micron square mirrors were designed to support conventional, attenuated, and alternating phase-shift lithography.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 86, Issues 4–6, April–June 2009, Pages 569–572
Journal: Microelectronic Engineering - Volume 86, Issues 4–6, April–June 2009, Pages 569–572
نویسندگان
John Lauria, Ronald Albright, Olga Vladimirsky, Maarten Hoeks, Roel Vanneer, Bert van Drieenhuizen, Luoqi Chen, Luc Haspeslagh, Ann Witvrouw,