Keywords: مسمومیت هدف; Gas impulse magnetron sputtering; Titanium dioxide; Phase composition; Water wettability; Target poisoning;
مقالات ISI مسمومیت هدف (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Keywords: مسمومیت هدف; Nano-mechanical properties; Roughness; Tantalum nitride; Target poisoning; Sputtering; Thin film;
Keywords: مسمومیت هدف; Reactive sputtering; Laser reflectometry; Roughness evolution; Target poisoning;
Superimposition of high power impulse and middle frequency magnetron sputtering for fabrication of CrTiBN multicomponent hard coatings
Keywords: مسمومیت هدف; CrTiBN coating; Superimposition; High power impulse magnetron sputtering; Middle frequency; Target poisoning; TiB2; BN;
Influences of target poisoning on the mechanical properties of TiCrBN thin films grown by a superimposed high power impulse and medium-frequency magnetron sputtering
Keywords: مسمومیت هدف; TiCrBN films; High power impulse magnetron sputtering; Medium-frequency magnetron sputtering; Plasma emission monitoring; Target poisoning; Transition region;
In-situ optical emission spectroscopy for a better control of hybrid sputtering/evaporation process for the deposition of Cu(In,Ga)Se2 layers
Keywords: مسمومیت هدف; Cu(In,Ga)Se2; Hybrid process; Optical emission spectroscopy; Photovoltaics; Plasma species; Sputtering; Target poisoning;
Influence of Si on the target oxide poisoning during reactive arc evaporation of (Al,Cr)2O3 coatings
Keywords: مسمومیت هدف; Alumina; Oxide; Al–Cr–Si–O; Target poisoning
Mechanical properties study of a magnetron-sputtered Zr-based thin film metallic glass
Keywords: مسمومیت هدف; Zr-based thin film metallic glass; Plasma emission monitoring; Target poisoning; Scratch test; Pin-on-disk wear;
Physics of arcing, and implications to sputter deposition
Keywords: مسمومیت هدف; 444: sputtering; 373: plasma processing and deposition; Arcing; Target poisoning