Keywords: تمیز کردن ویفر; Wafer cleaning; Surface preparation; Surface passivation; Silicon; Aluminum oxide; Silicon nitride;
مقالات ISI تمیز کردن ویفر (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Keywords: تمیز کردن ویفر; Wafer cleaning; Surface roughness; AFM; SEM; Anodic bonding; Device packaging
Hydrogen microwave plasma treatment of Si and SiO2
Keywords: تمیز کردن ویفر; Plasma treatment; Wafer cleaning; Hydrogen plasma; Microwave plasma;
A study of hydrogen peroxide decomposition in ammonia-peroxide mixtures (APM)
Keywords: تمیز کردن ویفر; Wafer cleaning; Ammonia-peroxide mixtures; Hydrogen peroxide decomposition; Ammonium hydroxide loss; Iron (Fe2+)
Role of cleaning methods on bond quality of Ti coated glass/imidex system
Keywords: تمیز کردن ویفر; Thin film deposition; Wafer cleaning; Bond strength; Scanning electron microscopy (SEM); X-ray photoelectron spectroscopy (XPS); Carbon contamination;
Study of interaction between silicon surfaces in dilute ammonia peroxide mixtures (APM) and their components using atomic force microscope (AFM)
Keywords: تمیز کردن ویفر; Wafer cleaning; Ammonia–hydrogen peroxide (APM) mixtures; Interaction forces; Contact angle measurements and atomic force microscopy (AFM)
Slicing, cleaning and kerf analysis of germanium wafers machined by wire electrical discharge machining
Keywords: تمیز کردن ویفر; Wire electrical discharge machining; Wafer slicing; Single crystal germanium; Raman spectroscopy; Kerf; Wafer cleaning; Recast layer thickness
Surfactant-aided supercritical carbon dioxide drying for photoresists to prevent pattern collapse
Keywords: تمیز کردن ویفر; Supercritical carbon dioxide; Pattern collapse; Surfactant; Wafer cleaning; Photoresist