کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10364838 | 871851 | 2013 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Reconfigurable CMOS with undoped silicon nanowire midgap Schottky-barrier FETs
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Virtually dopant-free CMOS multi-gate silicon-nanowire FET SOI technology. ⺠Midgap Schottky-barrier source/drain enabling carrier tunneling. ⺠Use of Schottky-barriers provides low source/drain leakage. ⺠Asymmetric workfunction metal not suitable for NWFET technology. ⺠Voltage selectable NWFET types add to flexibility in circuit design.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Journal - Volume 44, Issue 12, December 2013, Pages 1072-1076
Journal: Microelectronics Journal - Volume 44, Issue 12, December 2013, Pages 1072-1076
نویسندگان
Frank Wessely, Tillmann Krauss, Udo Schwalke,