کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10401245 | 891171 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
High-density DLC films prepared using a magnetron sputter type negative ion source
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Higher cathode voltage induced denser film, while Cs flow rate had optimum temperature condition around 150 °C.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Diamond and Related Materials - Volume 14, Issue 2, February 2005, Pages 196-200
Journal: Diamond and Related Materials - Volume 14, Issue 2, February 2005, Pages 196-200
نویسندگان
Namwoong Paik,