کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10401245 891171 2005 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
High-density DLC films prepared using a magnetron sputter type negative ion source
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه سایر رشته های مهندسی مهندسی برق و الکترونیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله
High-density DLC films prepared using a magnetron sputter type negative ion source
چکیده انگلیسی
Higher cathode voltage induced denser film, while Cs flow rate had optimum temperature condition around 150 °C.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Diamond and Related Materials - Volume 14, Issue 2, February 2005, Pages 196-200
نویسندگان
,