کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10632146 | 992387 | 2005 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
RF reactive magnetron sputtering for Fe-doped titania films deposited from ceramic targets
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Fe-doped titania films are prepared by RF magnetron sputtering on Si wafers with specifically designed TiO2 targets containing different amounts of Fe2O3 powder as a dopant source. The physical properties of the films are investigated in terms of the preparation conditions, such as Fe2O3 content in the target, RF power, substrate temperature and working pressure. The films show the typical crystallographic orientation. The growth rate increases with increasing RF power, but decreases with working pressure. Films with 40Â nm and the transmittance over 90% at the visible region are prepared by using Fe-doped titania target.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Research Bulletin - Volume 40, Issue 9, 1 September 2005, Pages 1584-1590
Journal: Materials Research Bulletin - Volume 40, Issue 9, 1 September 2005, Pages 1584-1590
نویسندگان
Ru-Bing Zhang,