کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10666278 | 1007656 | 2005 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Copper selenide thin films prepared using combination of chemical precipitation and dip coating method
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
A novel method has been developed for the preparation of copper selenide thin films. The method is based on a combination of chemical precipitation of copper selenide powders and a dip coating technique using this powder. The synthesized powder and deposited thin films at various dip coatings were analyzed using X-ray diffractometry and scanning electron microscopy (SEM). X-ray diffraction data of the thin films indicate formation of polycrystalline materials. The SEM micrographs showed formation of compact and granular morphology for the film deposited after four dip coatings. The thin films produced were found to display p-type semiconductor behavior.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Letters - Volume 59, Issue 11, May 2005, Pages 1391-1394
Journal: Materials Letters - Volume 59, Issue 11, May 2005, Pages 1391-1394
نویسندگان
Zulkarnain Zainal, Saravanan Nagalingam, Tan Chin Loo,