کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10668150 | 1008340 | 2011 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Modeling reactive sputter deposition of titanium nitride in a triode magnetron sputtering system
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
âºThe Berg's model was successfully modified and applied to a triode magnetron sputtering system. âºThe results show that decreasing the grid-to-target distance reduces the hysteresis loop in reactive deposition of TiN. âºThe reduced hysteresis in TMS is due to the deposition of material on the grid, reducing the role of the collecting area.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 7, 25 December 2011, Pages 1765-1770
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 7, 25 December 2011, Pages 1765-1770
نویسندگان
J.C. Sagás, D.A. Duarte, D.R. Irala, L.C. Fontana, T.R. Rosa,