کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10668150 1008340 2011 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Modeling reactive sputter deposition of titanium nitride in a triode magnetron sputtering system
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Modeling reactive sputter deposition of titanium nitride in a triode magnetron sputtering system
چکیده انگلیسی
►The Berg's model was successfully modified and applied to a triode magnetron sputtering system. ►The results show that decreasing the grid-to-target distance reduces the hysteresis loop in reactive deposition of TiN. ►The reduced hysteresis in TMS is due to the deposition of material on the grid, reducing the role of the collecting area.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 7, 25 December 2011, Pages 1765-1770
نویسندگان
, , , , ,