کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10668202 | 1008345 | 2011 | 10 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Chemical structure and mechanical properties of Si-containing a-C:H and a-C thin films and their Cr- and W-containing derivatives
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Hardness and elastic modulus of the a-C-Si-(O,N) films could be adjusted in a wide range of approx. 5-15 GPa and 40-140 GPa, respectively. Systematic alteration of these values with the composition (C/Si, O/Si and N/Si atomic ratio) and with the chemical structure (αSiï¬) was established and their interrelations are discussed. Whilst incorporation of Cr does not alter the mechanical properties, the addition of W increases H and E up to 19 GPa and 210 GPa, respectively.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 4, 15 November 2011, Pages 630-639
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 4, 15 November 2011, Pages 630-639
نویسندگان
I. Bertóti, A. Tóth, M. Mohai, J. Szépvölgyi,