کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10668249 | 1008352 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A novel high-power pulse PECVD method
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠An ionized plasma is generated by means of a hollow cathode discharge. ⺠Discharge can be sustained in DC mode, or in high-power pulsed (HiPP) mode. ⺠Amorphous, copper containing carbon coatings have been deposited at up to 30 μm/h. ⺠More efficient PECVD process by using HiPP + DC power, compared to DC power
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 22, 25 June 2012, Pages 4562-4566
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 22, 25 June 2012, Pages 4562-4566
نویسندگان
Henrik Pedersen, Petter Larsson, Asim Aijaz, Jens Jensen, Daniel Lundin,