کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10668271 | 1008352 | 2012 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Microstructure modifications of CrN coatings by pulsed bias sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Microstructure modifications of CrN coatings by pulsed bias sputtering Microstructure modifications of CrN coatings by pulsed bias sputtering](/preview/png/10668271.png)
چکیده انگلیسی
âºMagnetron sputtering of CrN hard coatings with pulsed bias âºAsymmetric bipolar pulsed bias with different electron-to-ion flux ratios âºElectron bombardment increases adatom mobility and annealing without re-sputtering. âºElectron-to-ion flux ratio changes microstructure and mechanical properties. âºVariation of ion-to-atom flux ratio shifts turn-over in texture of CrN phase.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 22, 25 June 2012, Pages 4666-4671
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 206, Issue 22, 25 June 2012, Pages 4666-4671
نویسندگان
S. Grasser, R. Daniel, C. Mitterer,