کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10668386 | 1008360 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nanoscale friction of partially oxidized silicon nitride thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Nanoscale friction of partially oxidized silicon nitride thin films Nanoscale friction of partially oxidized silicon nitride thin films](/preview/png/10668386.png)
چکیده انگلیسی
⺠The nanoscale friction behavior of partially oxidized Si3N4 thin films is studied. ⺠A modification of the crystal chemistry model for tribology is suggested. ⺠Ultra-low friction coefficients for SiOxNy are observed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Issue 19, 25 June 2011, Pages 4528-4531
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Issue 19, 25 June 2011, Pages 4528-4531
نویسندگان
J. Filla, C. Aguzzoli, V. Sonda, M.C.M. Farias, G.V. Soares, I.J.R. Baumvol, C.A. Figueroa,