کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10668446 | 1008373 | 2011 | 9 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Discharge physics of high power impulse magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Overview with review and tutorial character. ⺠High power impulse magnetron sputtering is defined and distinguished from other forms of sputtering. ⺠Roles of self-sputtering and rarefaction are emphasized. ⺠Self-sputtering may (or may not) run away. ⺠HIPIMS physics is illustrated using niobium target. ⺠HIPIMS offers new opportunities for selected coatings applications.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Supplement 2, 25 July 2011, Pages S1-S9
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Supplement 2, 25 July 2011, Pages S1-S9
نویسندگان
André Anders,