کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10668482 | 1008373 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth kinetics of plasma deposited microcrystalline silicon thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Simulation of the time evolution of plasma deposited μc-Si:H films structure and morphology. ⺠Edge effects on film thickness and structure uniformity. ⺠Calculation of time evolution of species and ions fluxes towards the surface. ⺠Calculations of stable silicon nuclei size on the glass - Si film - vacuum system. ⺠Mechanism of crystallization and frequencies of surface and gas-surface processes.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Supplement 2, 25 July 2011, Pages S178-S181
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Supplement 2, 25 July 2011, Pages S178-S181
نویسندگان
E. Amanatides, D. Mataras,