کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10668521 1008374 2011 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Investigation of reactive high power impulse magnetron sputtering processes using various target material-reactive gas combinations
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Investigation of reactive high power impulse magnetron sputtering processes using various target material-reactive gas combinations
چکیده انگلیسی
► Ti-O2, Ti-CO2, Cr-O2, Cr-C2H4, Al-O2, Zn:Al-O2 reactive (R) HIPIMS processes. ► The features of hysteresis loops depend on a particular metal-reactive gas pair. ► Hysteresis in R HIPIMS is more pronounced for the gases that have high chemical affinity for a target.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Issue 12, 15 March 2011, Pages 3613-3620
نویسندگان
, ,