کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10668522 | 1008373 | 2011 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Time-resolved plasma characterisation of modulated pulsed power magnetron sputtering of chromium
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Two step plasma excitation leads to two stable discharge states and a transition. ⺠Plasma densities in the high 1017 m-3 region obtained during the transition. ⺠Beam-like electrons found during pulse initiation. ⺠Negative plasma potentials explained by volume-averaged model of quasineutrality.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Supplement 2, 25 July 2011, Pages S312-S316
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Supplement 2, 25 July 2011, Pages S312-S316
نویسندگان
B. Liebig, N. St J. Braithwaite, P.J. Kelly, R. Chistyakov, B. Abraham, J.W. Bradley,