کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10668522 1008373 2011 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Time-resolved plasma characterisation of modulated pulsed power magnetron sputtering of chromium
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Time-resolved plasma characterisation of modulated pulsed power magnetron sputtering of chromium
چکیده انگلیسی
► Two step plasma excitation leads to two stable discharge states and a transition. ► Plasma densities in the high 1017 m-3 region obtained during the transition. ► Beam-like electrons found during pulse initiation. ► Negative plasma potentials explained by volume-averaged model of quasineutrality.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Supplement 2, 25 July 2011, Pages S312-S316
نویسندگان
, , , , , ,