کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10668535 | 1008374 | 2011 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of lower current densities on the residual stress and structure of thick nickel electrodeposits
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Thick Ni electrodeposits were produced using very low current densities ⺠Deposit mechanical properties correlate strongly with grain morphology and texture ⺠Accounting for film texture allowed precise calculation of modulus, residual stress ⺠Values of residual stress comparable to deposits plated at higher current densities
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Issue 12, 15 March 2011, Pages 3651-3657
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Issue 12, 15 March 2011, Pages 3651-3657
نویسندگان
Siddhartha Pathak, Marion Guinard, Martine G.C. Vernooij, Barbara Cousin, Zhao Wang, Johann Michler, Laetitia Philippe,