کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10668535 1008374 2011 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of lower current densities on the residual stress and structure of thick nickel electrodeposits
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Influence of lower current densities on the residual stress and structure of thick nickel electrodeposits
چکیده انگلیسی
► Thick Ni electrodeposits were produced using very low current densities ► Deposit mechanical properties correlate strongly with grain morphology and texture ► Accounting for film texture allowed precise calculation of modulus, residual stress ► Values of residual stress comparable to deposits plated at higher current densities
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Issue 12, 15 March 2011, Pages 3651-3657
نویسندگان
, , , , , , ,