کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10668556 | 1008374 | 2011 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Titanium diboride thin films produced by dc-magnetron sputtering: Structural and mechanical properties
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
âºTiB2 films deposited by dc-magnetron sputtering. âºXRD measurements indicate a strong TiB2 preferential (001) orientation. âºCompressive stress increases upon the increase of the film density. âºCorrelation between stress, hardness and elastic modulus with film density.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Issue 12, 15 March 2011, Pages 3698-3702
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Issue 12, 15 March 2011, Pages 3698-3702
نویسندگان
C.M.T. Sanchez, B. Rebollo Plata, M.E.H. Maia da Costa, F.L. Jr.,