کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10668709 | 1008385 | 2010 | 11 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Chemical compositions of organosilicon thin films deposited on aluminium foil by atmospheric pressure dielectric barrier discharge and their electrochemical behaviour
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Atmospheric pressure dielectric barrier discharge (AP-DBD) deposition of organosilicon thin films on aluminium foils was investigated over a range of discharge parameters. Scanning Electron Microscopy (SEM), Transmission Electron Microscopy (TEM), Fourier Transform Infrared Spectroscopy (FTIR) and X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) analyses showed how variations of the plasma gas composition and deposition conditions affect the composition, structure and morphology of the films. The corrosion behaviour of the films was characterised by electrochemical techniques. Relationships between the deposition parameters, film chemistry and electrochemical properties of these films are reported.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Issue 7, 25 December 2010, Pages 2438-2448
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 205, Issue 7, 25 December 2010, Pages 2438-2448
نویسندگان
Nicolas D. Boscher, Patrick Choquet, David Duday, Stéphane Verdier,