کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10672700 | 1009976 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A simple electron-beam lithography system
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: A simple electron-beam lithography system A simple electron-beam lithography system](/preview/png/10672700.png)
چکیده انگلیسی
A large number of applications of electron-beam lithography (EBL) systems in nanotechnology have been demonstrated in recent years. In this paper we present a simple and general-purpose EBL system constructed by insertion of an electrostatic deflector plate system at the electron-beam exit of the column of a scanning electron microscope (SEM). The system can easily be mounted on most standard SEM systems. The tested setup allows an area of up to about 50Ã50 μm to be scanned, if the upper limit for acceptable reduction of the SEM resolution is set to 10 nm. We demonstrate how the EBL system can be used to write three-dimensional nanostructures by electron-beam deposition.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Ultramicroscopy - Volume 102, Issue 3, February 2005, Pages 215-219
Journal: Ultramicroscopy - Volume 102, Issue 3, February 2005, Pages 215-219
نویسندگان
Kristian Mølhave, Dorte Nørgaard Madsen, Peter Bøggild,