کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10672755 | 1010001 | 2005 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dynamic profile calculation of deposition resolution by high-energy electrons in electron-beam-induced deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Dynamic profile calculation of deposition resolution by high-energy electrons in electron-beam-induced deposition Dynamic profile calculation of deposition resolution by high-energy electrons in electron-beam-induced deposition](/preview/png/10672755.png)
چکیده انگلیسی
The effect of the substrate was also argued by comparing the above results with the simulation results obtained for a point-like starting substrate. Surprisingly, the shapes of the deposits grown on bulk substrates were reproduced well by the simulations starting from point-like substrates indicating the small effect of the substrate on the shape of deposits.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Ultramicroscopy - Volume 103, Issue 1, April 2005, Pages 17-22
Journal: Ultramicroscopy - Volume 103, Issue 1, April 2005, Pages 17-22
نویسندگان
K. Mitsuishi, Z.Q. Liu, M. Shimojo, M. Han, K. Furuya,