کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10672755 | 1010001 | 2005 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dynamic profile calculation of deposition resolution by high-energy electrons in electron-beam-induced deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The effect of the substrate was also argued by comparing the above results with the simulation results obtained for a point-like starting substrate. Surprisingly, the shapes of the deposits grown on bulk substrates were reproduced well by the simulations starting from point-like substrates indicating the small effect of the substrate on the shape of deposits.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Ultramicroscopy - Volume 103, Issue 1, April 2005, Pages 17-22
Journal: Ultramicroscopy - Volume 103, Issue 1, April 2005, Pages 17-22
نویسندگان
K. Mitsuishi, Z.Q. Liu, M. Shimojo, M. Han, K. Furuya,