کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10676128 | 1011264 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Valence number transition and silicate formation of cerium oxide films on Si(100)
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠The band alignment of Ce-silicate with respect to Si is determined by X-ray photoelectron spectroscopy. ⺠The photoelectron spectra of Ce3+, Ce4+ and Ce-silicates are extracted from Ce-oxide thin film on a Si wafer. ⺠The valence number change of Ce atoms after annealing was model base on reaction of Ce and Si substrate.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 86, Issue 10, 27 April 2012, Pages 1513-1516
Journal: Vacuum - Volume 86, Issue 10, 27 April 2012, Pages 1513-1516
نویسندگان
M. Mamatrishat, M. Kouda, K. Kakushima, H. Nohira, P. Ahmet, Y. Kataoka, A. Nishiyama, K. Tsutsui, N. Sugii, K. Natori, T. Hattori, H. Iwai,