کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10676141 | 1011264 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Sublimation epitaxy of 3C-SiC grown at Si- and C-rich conditions
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Sublimation epitaxy of 3C-SiC grown at Si- and C-rich conditions. ⺠Continuous 3C-SiC domains for the layer grown at Si-rich conditions. ⺠Hill and pit nature of 6H-SiC inclusions investigated by AFM. ⺠Higher intensity of the 3C-SiC 111 peak for 3C-SiC grown at Si-rich conditions.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 86, Issue 10, 27 April 2012, Pages 1595-1599
Journal: Vacuum - Volume 86, Issue 10, 27 April 2012, Pages 1595-1599
نویسندگان
M. Beshkova, J. Birch, M. Syväjärvi, R. Yakimova,