کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
11003876 | 1463029 | 2018 | 11 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fracture toughness of freestanding copper films with a thickness of 39â¯nm
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی مکانیک
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
In situ field emission scanning electron microscope (FESEM) fracture toughness experiments on 39-nm-thick freestanding copper (Cu) films were conducted. We developed methods for fabricating and testing the fracture toughness of ultrathin freestanding metallic film specimens. Although 39-nm-thick Cu films showed lower critical crack tip opening displacement (CTOD) than 100-2600-nm-thick films, both films had similar critical CTODs when normalized by their film thickness. This independence of normalized CTOD on film thickness indicates that geometric similarity of local fracture morphologies exists in films with a thickness of the order of 10â¯nm. Crack initiation in ultrathin films was accompanied by ductile fracture.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Engineering Fracture Mechanics - Volume 200, September 2018, Pages 521-531
Journal: Engineering Fracture Mechanics - Volume 200, September 2018, Pages 521-531
نویسندگان
Toshiyuki Kondo, Kazuki Hiramine, Hiroyuki Hirakata, Kohji Minoshima,