کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1496538 | 992967 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Advances in numerical simulation of wide-bandgap bulk crystal growth
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Advances in numerical simulation of wide-bandgap bulk crystal growth Advances in numerical simulation of wide-bandgap bulk crystal growth](/preview/png/1496538.png)
چکیده انگلیسی
The paper reviews the basic aspects of sublimation growth of wide-bandgap semiconductors such as SiC and group-III nitrides. The most significant physical and chemical phenomena underlying the growth are considered: heat and mass transport, sublimation and condensation, heterogeneous chemical reactions, flow through reacting porous medium, thermoelastic stress, and defect generation. State of the art in numerical modeling of sublimation growth is discussed. Modeling is shown to be effective for solving of practically important problems of the process study and optimization.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Optical Materials - Volume 30, Issue 1, September 2007, Pages 58-61
Journal: Optical Materials - Volume 30, Issue 1, September 2007, Pages 58-61
نویسندگان
Alexey V. Kulik,