کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1499255 | 993300 | 2013 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Application of sputtered ruthenium nitride thin films as electrode material for energy-storage devices
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
RuN films that crystallized in the ZnS-like structure with [1 1 1] preferred orientation have been deposited by reactive sputtering. Preliminary results are reported on the electrochemical properties of such films as electrode materials for supercapacitors and lithium-ion batteries. Cyclic voltammetric experiments indicate an attractive capacitance value of 37 F g−1. Moreover, galvanostatic measurements indicate that RuN films reversibly react with lithium through a conversion reaction with Ru(0) nanoparticle formation. A high capacity value of ∼700 mAh g−1 at C/2 rate is achievable.
Figure optionsDownload high-quality image (80 K)Download as PowerPoint slide
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Scripta Materialia - Volume 68, Issue 9, May 2013, Pages 659–662
Journal: Scripta Materialia - Volume 68, Issue 9, May 2013, Pages 659–662
نویسندگان
S. Bouhtiyya, R. Lucio Porto, B. Laïk, P. Boulet, F. Capon, J.P. Pereira-Ramos, T. Brousse, J.F. Pierson,