کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1499764 | 993320 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nitrogen incorporated GeTe phase change thin film for high-temperature data retention and low-power application
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Nitrogen incorporated GeTe phase change thin film for high-temperature data retention and low-power application Nitrogen incorporated GeTe phase change thin film for high-temperature data retention and low-power application](/preview/png/1499764.png)
چکیده انگلیسی
The crystallization temperature of GeTe film increases markedly from 187 to 372 °C as a result of 9.81 at.% nitrogen doping, and a rhombohedral–rocksalt phase transition is observed in both GeTe and nitrogen-doped GeTe (GeTeN) films. Up to 105 cycles of endurance for phase change memory (PCM) cells based on GeTeN have been achieved. Extrafine data retention (10 years at 241 °C) and relatively low power consumption suggest GeTeN as a promising alternative material to improve the performance of PCM.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Scripta Materialia - Volume 65, Issue 4, August 2011, Pages 327–330
Journal: Scripta Materialia - Volume 65, Issue 4, August 2011, Pages 327–330
نویسندگان
Cheng Peng, Liangcai Wu, Feng Rao, Zhitang Song, Xilin Zhou, Min Zhu, Bo Liu, Dongning Yao, Songlin Feng, Pingxiong Yang, Junhao Chu,