کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1521155 1511798 2015 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
In situ Al-doped ZnO films by atomic layer deposition with an interrupted flow
ترجمه فارسی عنوان
در محل فیلم اکسید روی آلاییده آل رسوب لایه اتمی با جریان قطع
کلمات کلیدی
فیلم های نازک. پراکندگی اشعه ایکس، رسانایی الکتریکی، اثر هال،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش مقاله
در محل فیلم اکسید روی آلاییده آل رسوب لایه اتمی با جریان قطع
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Chemistry and Physics - Volume 165, 1 September 2015, Pages 245-252
نویسندگان
, , , , ,