کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1524216 995335 2012 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of gate thermal oxide layer on InGaP/InGaAs doping-channel field-effect transistors
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Influence of gate thermal oxide layer on InGaP/InGaAs doping-channel field-effect transistors
چکیده انگلیسی
► The effect of a thin gate thermal oxide layer on device performance is demonstrated. ► The device mechanism is discussed by energy band and physical insight. ► Drain current and gate voltage swing increase with a thin gate thermal oxide layer. ► The relatively thin gate thermal oxide enables the drain current could not pinch off.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Chemistry and Physics - Volume 133, Issue 1, 15 March 2012, Pages 328-332
نویسندگان
,