کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1524216 | 995335 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of gate thermal oxide layer on InGaP/InGaAs doping-channel field-effect transistors
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠The effect of a thin gate thermal oxide layer on device performance is demonstrated. ⺠The device mechanism is discussed by energy band and physical insight. ⺠Drain current and gate voltage swing increase with a thin gate thermal oxide layer. ⺠The relatively thin gate thermal oxide enables the drain current could not pinch off.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Chemistry and Physics - Volume 133, Issue 1, 15 March 2012, Pages 328-332
Journal: Materials Chemistry and Physics - Volume 133, Issue 1, 15 March 2012, Pages 328-332
نویسندگان
Jung-Hui Tsai,