کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1531167 | 1512006 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Structural, chemical and optical characterizations of nanocrystallized AlN:Er thin films prepared by r.f. magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Structural, chemical and optical characterizations of nanocrystallized AlN:Er thin films prepared by r.f. magnetron sputtering Structural, chemical and optical characterizations of nanocrystallized AlN:Er thin films prepared by r.f. magnetron sputtering](/preview/png/1531167.png)
چکیده انگلیسی
Nanocrystalline n-AlN:Er thin films were deposited on (0 0 1) Silicon substrates by r.f. magnetron sputtering at room temperature to study the correlation between 1.54 μm IR photoluminescence (PL) intensity, AlN crystalline structure and Er concentration rate. This study first presents how Energy-Dispersive Spectroscopy of X-rays (EDSX) Er Cliff Lorimer sensitivity factor α = 5 is obtained by combining EDSX and electron probe micro analysis (EPMA) results on reference samples. It secondly presents the relative PL intensities of nanocrystallized samples prepared with identical sputtering parameters as a function of the Er concentration. The structure of crystallites in AlN films is observed by transmission electron microscopy.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science and Engineering: B - Volume 146, Issues 1–3, 15 January 2008, Pages 200–203
Journal: Materials Science and Engineering: B - Volume 146, Issues 1–3, 15 January 2008, Pages 200–203
نویسندگان
V. Brien, P. Miska, H. Rinnert, D. Genève, P. Pigeat,